Análise da tensão induzida no osso peri-implantar por implantes de diferentes diâmetros com plataformas regular e Switching
Luís Carlos Merçon de Vargas.
Dissertação
por
D3
Campinas : [s.n.], 2011.
65 f. : il.
Dissertação (Mestrado em Prótese Dentária) - Centro de Pesquisas Odontológicas São Leopoldo Mandic.
O objetivo do estudo foi avaliar a distribuição de tensões no osso peri-implantar simulando a influência de diferentes diâmetros de implante em plataforma protética regular e switching por meio do método dos elementos finitos tridimensionais. Foram confeccionados 5 modelos matemáticos...
Ver mais
O objetivo do estudo foi avaliar a distribuição de tensões no osso peri-implantar simulando a influência de diferentes diâmetros de implante em plataforma protética regular e switching por meio do método dos elementos finitos tridimensionais. Foram confeccionados 5 modelos matemáticos representativos de uma maxila parcial da região do elemento 11 restaurada com implantes. Os modelos variaram o diâmetro do implante de hexágono interno (5,5 e 4,5 mm) e da plataforma protética (regular e switching): Regular 1 (R1), implante 4,5X11,5 mm e pilar 4,5 (redução 0%); Regular 2 (R2), implante 5,5X11,5 mm e pilar 5,5 (redução 0%); Switching 1 (S1), implante 4,5X11,5 mm e pilar 3,8 (redução 15,5%); Switching 2 (S2), implante 5,5X11,5 mm e pilar 4,5 (redução 18,1%) e Switching 3 (S3), implante 5,5X11,5 mm e pilar 3,8 (redução 30,9%). Os modelos foram confeccionados nos programas Mimics 11,11 (Materialise) e Solid Works 2010 (Inovart). Os materiais foram considerados homogêneos, isotrópicos e linearmente elásticos. A interface de contato entre o osso e o implante foi considerada perfeitamente integrada. A análise numérica foi realizada no programa ANSYS Workbenck 10.0. Forças oblíquas (100N) foram aplicadas na face palatina da coroa com angulação de 45º. Máxima (?max) e mínima (?min) tensão principal e tensão equivalente de von Mises (?vm) foram avaliadas para o osso cortical e medular. No osso cortical, os maiores valores de máxima tensão principal (?max) e tensão de von Mises (?vm) foram observados no R1 (105 e 87,1 MPa), seguido do S1 (81,1 e 73,3 MPa), R2 (67,3 e 52,5 MPa), S3 (49,2 e 41,6 MPa) e S2 (46,1 e 39,8 MPa). No osso medular, os maiores valores de máxima tensão principal (?max) foram observados no S3 (11,8 MPa), seguido do R1 (7,32 MPa), S1 (6,28 MPa), R2 (5,19 MPa) e S2 (4,09 MPa). A influência positiva do implante de largo diâmetro diminuindo a tensão no osso Peri-implantar e também quando associado à plataforma switching, foi mais evidente para o osso cortical em comparação ao osso medular.
Palavras-chave: Implantes osseointegrados. Tensão. Osso. Ver menos
Palavras-chave: Implantes osseointegrados. Tensão. Osso. Ver menos
Análise da tensão induzida no osso peri-implantar por implantes de diferentes diâmetros com plataformas regular e Switching
Luís Carlos Merçon de Vargas.
Análise da tensão induzida no osso peri-implantar por implantes de diferentes diâmetros com plataformas regular e Switching
Luís Carlos Merçon de Vargas.
Exemplares
Nº de exemplares: 1
Não existem reservas para esta obra