A perda óssea marginal (POM) é uma grande preocupação na implantodontia atualmente. Ela está diretamente relacionada à longevidade dos implantes osseointegráveis e consequentemente o sucesso do tratamento. A POM também está diretamente relacionada à altura dos intermediários das conexões protéticas respectivamente com sua adequação do espaço biológico periimplantar. Sabe-se que implantes infra-osseos de conexão do tipo cone morse (CM) irão preservar maior quantidade de osso alveolar em comparação aos implantes instalados em margem óssea do tipo hexágono externo (HE). O presente trabalho tem por objetivo comparar e apresentar as diferenças encontradas na POM nos implantes do tipo CM com "Platform Switching" e os do tipo HE. Para isso, foi realizada uma pesquisa bibliográfica virtual nos bancos de dados "PUBMED, BVS e SCIELO", onde foram selecionados 10 artigos disponíveis com texto completo e gratuitos, publicados no período de 2016 a 2023, que abordassem os temas de perda óssea marginal, espaço biológico periimplantar, conexão cônica interna, conexão hexagonal externa e "Platform Switching". Como resultado, evidenciou-se que nos implantes cone morse com "Platform Switching" instalados infra-ósseos, a perda óssea marginal é menor e os ossos marginais permanecem preservados; nos implantes hexágono externo houve maior perda óssea marginal; os dois modelos de tratamento são eficazes, assumindo taxas de sobrevivência e taxa de complicações equivalentes. Ver menos