Análise fotoelástica comparativa do estresse peri-implantar sobre múltiplos implantes curtos com e sem plataforma Switching [recurso eletrônico]
Thomas Soares dos Santos
Dissertação
por
Campinas : [s.n.], 2018.
59f. : il.
Dissertação (Mestrado em Implantodontia) - Centro de Pesquisas Odontológicas São Leopoldo Mandic.
Em regiões posteriores dos maxilares a altura óssea limitada representa um grande desafio. Uma opção terapêutica mais simples que reduz a necessidade de terapia de aumento ósseo pode ser a colocação de implantes curtos com comprimento entre 5 e 7 mm. O fracasso desses implantes pode estar...
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Em regiões posteriores dos maxilares a altura óssea limitada representa um grande desafio. Uma opção terapêutica mais simples que reduz a necessidade de terapia de aumento ósseo pode ser a colocação de implantes curtos com comprimento entre 5 e 7 mm. O fracasso desses implantes pode estar relacionado ao seu comportamento biomecânico, uma vez que o seu menor tamanho poderia levar a uma maior concentração de tensões no tecido ósseo, resultando em perda óssea em torno do colo do implante. Princípios biomecânicos da plataforma switching têm sido estudados por conta da sua capacidade de minimizar a perda óssea em torno do pescoço do implante. Assim, o objetivo de estudo será avaliar a distribuição do estresse em implantes curtos de plataforma switching utilizando um método fotoelástico. Foi confeccionado um modelo em resina epóxi com dois implantes de 5 mm de diâmetro (plataforma protética 5 mm) e 5 mm de comprimento, do modelo Hexágono Externo Revolution Compact. Também foram confeccionadas duas próteses fixas de três elementos: segundo pré-molar, primeiro molar e segundo molar. As próteses foram confeccionadas em metal. Em uma prótese foi usado uclas sem hexágono com perfil de 5 mm, GRUPO 1 - Plataforma Coincidente, e na outra, uclas sem hexágono com perfil de 4.1 mm, GRUPO 2 - Plataforma Switching. Ambos os grupos sofreram carga oclusal axial de 200N através de uma Maquina Universal de Teste. As imagens foram gravadas e avaliadas qualitativamente por um examinador. Os dois grupos apresentaram o mesmo numero de franjas em torno dos implantes nos três momentos de força, distribuídos entre a região cervical e ápice dos implantes. Com base nos resultados analisados e discutidos, conclui-se que os dois grupos demonstraram um mesmo padrão na distribuição das tensões, sem diferença quanto à concentração e à intensidade.
Palavras-chave: Implantes dentários. Plataforma Switching. Biomecânica. Análise fotoelástica. Ver menos
Palavras-chave: Implantes dentários. Plataforma Switching. Biomecânica. Análise fotoelástica. Ver menos
Vedovatto, Eduardo
Orientador
Análise fotoelástica comparativa do estresse peri-implantar sobre múltiplos implantes curtos com e sem plataforma Switching [recurso eletrônico]
Thomas Soares dos Santos
Análise fotoelástica comparativa do estresse peri-implantar sobre múltiplos implantes curtos com e sem plataforma Switching [recurso eletrônico]
Thomas Soares dos Santos